SIC单晶炉

  • 2024-04-29 14:34 711
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西安蓝辉科技股份有限公司

材质:铜材电压:380电流:适配频率:适配容量:适配功率:适配

SIC单晶炉是针对碳化硅单晶生长**工艺设备,也可用于氮化铝的单晶生长工艺。


SIC单晶炉设备特点

· 设备采用高频电源感应加热、水冷感应线圈,水冷箱及高温密封,并具备对生长室内的高真空度进行检测、温度的精确测量、加热过程的程序化控制,石墨坩埚与感应加热线圈之间相对位置的调节以及Ar等多种气体的定量定压供给等功能,使设备在冷却、隔热和抗电磁辐射等方面有着非常好的效果;

· 设备为晶体生长提供一个理想的工艺环境条件,保证SiC晶体的稳定生长;

· 设备可以有效的避免加热装置对晶体的污染,同时也相对增加了工作空间。


技术参数

加热温度较高温度2500°C
高周波电源50kw,7-15KHz
温度测量利用上下红外放射温度计测温
控制方式线圈电流控制(ACC)、放射温度计控制(ATC) 
温度控制精度手动方式
气氛士0.1%FS(ACC)、2500 °C士5 °C (ATC)
极限圧力真空、Ar 、N2 
圧力控制范围1.33x 10-3Pa (常温空妒时)
(133~101) x105 Pa士0.1%FS,
低圧侧 1.0~100.0士0.1 Torr,
高圧侧100~760士5 Torr


晶体生长设备


SIC单晶炉

高压VGF单晶炉

VTM单晶炉

多晶炉

立式扩散炉

单管扩散炉


真空设备

全自动湿法清洗设备

辅助设备

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